DLP 제품

고급 조명 제어 – 애플리케이션

TI DLP® 칩셋을 사용하여 강력하고 유연하며 프로그래밍 가능한 조명 제어 솔루션을 만들 수 있습니다. DLP 고급 조명 제어 제품 포트폴리오는 업계를 선도하는 이 MEMS 디스플레이 기술을 자외선 및 적외선 파장까지 확장하며, 더 빠른 패턴 속도와 더 향상된 픽셀 제어가 가능합니다. 완전한 레퍼런스 디자인과 사용이 쉬운 개발 툴을 통해 TI는 산업용 조명 제어 애플리케이션을 위한 혁신적이고 새로운 제품 개발을 가속화하고 있습니다.

3D 머신 비전

DLP 시스템은 프로그래머블 구조적 조명 패턴을 사용하여 실시간으로 비접촉, 고정밀 3D 데이터를 생성할 수 있습니다. 일련의 패턴을 물체에 프로젝팅하고 카메라나 센서로 빛의 왜곡을 캡처하여, 3D 점 클라우드를 만들 수 있습니다.

점 클라우드는 물체의 표면 영역, 부피 또는 특징 크기를 분석하는 데 바로 사용할 수 있습니다. 또한 다양한 CAD 모델링 형식으로 내보내는 것도 가능합니다.

 

3D 머신 비전 애플리케이션

  • 자동화된 광학 inspection3d 계측학

  • 출하 시 automationmedical 이미징

  • 생체 인식
3D 머신 비전

3d 머신 비전의 장점

광학 MEMS 디바이스(최대 4M 픽셀

시간과 온도 변화에 안정적이며 측정 대상을 변경하지 않는, 비접촉 3D 스캔을 구현할 수 있습니다.

외부 트리거

외부 카메라 및 센서와 동기화합니다.

확장된 파장 지원(최대 2500nm)

변하는 재질과 색상이 있는 물체를 스캔하기 위한 다양한 범위의 광원을 지원합니다.

프로그래머블, 고속 패턴 생성  (최대 32kHz)

실시간 스캔 데이터, 적응형 패턴 세트를 사용하여 여러 물체와 환경에 최적화.

높은 비트 깊이

더 높은 정확도와 해상도.

소형 폼 팩터

휴대 가능하며, TI의 임베디드 프로세서와 결합하면 비용이 저렴합니다.

모두 확장모두 축소

3D 머신 비전 제품 및 개발 키트

휴대성
고해상도
고속
DMD(디지털 마이크로미러 디바이스) DLP2010 DLP2010NIR DLP3010 DLP4710 DLP4500 DLP4500NIR DLP6500FYE / DLP6500FLQ DLP9000 DLP7000 DLP9500
해상도 854 x 480 854 x 480 1280 x 720 1920 x 1080 912 x 1140 912 x 1140 1920 x 1080 2560 x 1600 1024 x 768 1920 x 1080
컨트롤러 DLPC3470 DLPC3470 DLPC3478 DLPC3479 DLPC350 DLPC350 DLPC900 DLPC900
(수량 2)
DLPC410 DLPC410
최대 패턴 속도 2.5kHz 2.5kHz 2.5kHz 2.5kHz 4.2kHz 4.2kHz 9.5kHz 15kHz 32.5kHz 23.1kHz
최적화 파장 420-700nm 700-2500nm 420-700nm 420-700nm 420-700nm 700-2500nm 420-700nm 400-700nm 400-700nm 400-700nm
평가 모듈 DLP2010EVM-LC
no
DLP3010EVM-LC
no
DLP LightCrafter™ 4500 DLP NIRscan™ DLP6500FYE: DLP LightCrafter 6500 DLP LightCrafter 9000 DLP Discovery™ 4100 DLP Discovery 4100

3D 프린팅

3D 프린팅은 물질을 연속적으로 여러 층으로 겹쳐서 3차원의 물체를 제작하는 적층 가공 프로세스입니다. 이 프로세스를 통헤 제조업체는 설계 주기를 가속화하고, 프로토타입을 더 빠르게 조정하고, 생산 부품을 만들어낼 수 있습니다.

물체의 CAD(컴퓨터 이용 설계) 모델은 3D 프린터로 전송된 일련의 단면 조각으로 변환합니다. TI DLP DMD(디지털 마이크로미러 디바이스)는 주어진 레이어에 대한 패턴 조명을 프로젝션하는 데 사용되며, 최종적으로 물체를 제작합니다.  DLP 광조형(SLA) 프린터의 경우 빛 노출에 의해 액체수지가 강화됩니다.  SLS(선택적 레이저 소결 기술) 시스템의 경우 미세한 가루가 레이저 열 에너지에 의해 결합됩니다.  

DLP 기술을 사용하여 레이어의 복잡성에 관계없이 제작 속도를 일관되게 유지할 수 있습니다. 프로젝션 광학 부품은 이미지 평면의 해상도를 제어하고 레이어 두께를 조정하는 데도 사용할 수 있으며, 이를 통해 정밀한 형상 크기의 매끄럽게 마감된 부품을 얻을 수 있습니다. 이러한 이점과 입증된 안정성이 결합된 DLP 기술은 적층 가공 솔루션에 이상적인 솔루션입니다.

3d 프린팅 애플리케이션


  • 신속한 prototypingdirect 제조

  • 공구 세공 및 주조
  • 맞춤형 제품
3D 프린팅

3d 프린팅의 장점

2D 조명 패턴 생성

레이어의 복잡성에 관계없이 빠른 제작 시간을 위해 하나의 샷에 전체 인쇄 레이어를 노출.

고해상도 마이크로미러 어레이

이미지 평면에 50μm 미만 해상도 가능.

E확장된 파장 지원(363~2500nm)

다양한 범위의 고분자, 수지, 소결 분말 및 기타 제작 재료와 호환.

안정적인 MEMS 기술

비싼 교체 부품 없음.

모두 확장모두 축소

3D 프린팅 제품 및 개발 키트

휴대성
고해상도
고속
DMD(디지털 마이크로미러 디바이스) DLP2010 DLP3010 DLP4710 DLP4500 DLP6500FYE / DLP6500FLQ DLP9000 DLP7000
DLP7000UV
DLP9500
DLP9500UV
DLP9000X DLP650LNIR 
해상도 854 x 480 854 x 480 1920 x 1080 912 x 1140 1920 x 1080 2560 x 1600 1024 x 768 1920 x 1080 2560 x 1600 1280 x 800 
컨트롤러 DLPC3470 DLPC3478 DLPC3479 DLPC350 DLPC900 DLPC900
(수량 2)
DLPC410 DLPC410 DLPC910 DLPC410
최대 패턴 속도 2.5kHz 2.5kHz 2.5kHz 4.2kHz 9.5kHz 9.5kHz 32.5kHz 23.1kHz 15.0kHz 12.5kHz 
최대 픽셀 데이터 속도 1.0Gbps 2.3Gbps 5.2Gbps 4.4Gbps 19.7Gbps 39Gbps 25.2Gbps 48.0Gbps 61.1Gbps 12Gbps 
최적화 파장 420-700nm 420-700nm 420-700nm 420-700nm

DLP6500FYE: 420 - 700nm, 

DLP6500FLQ: 400 - 700nm 

400-700nm

DLP7000: 420 - 700nm, 

DLP7000UV: 363 - 420nm 

DLP9500: 400 - 700nm, 

DLP9500UV: 363 - 420nm 

400 - 700nm  800~2000nm 
평가 모듈 DLP2010EVM-LC DLP3010EVM-LC
no
DLP LightCrafter™ 4500 DLP6500FYE: DLP LightCrafter 6500 DLP LightCrafter 9000

DLPLCR70EVM

DLPLCR70UVEVM

DLPLCRC410EVM 

DLPLCR95EVM
no

DLPLCR65NEVM

 

디지털 리소그래피

디지털 리소그래피는 PCB 제조, 평판 디스플레이 수리, 레이저 마킹 및 기타 조명 노출 시스템에 사용됩니다. 디지털 리소그래피에서 DLP 기술은 접촉 마스크 없이 포토레지스트 필름과 기타 감광성 물질을 노출할 수 있는 고속, 고해상도 조명 패턴을 제공합니다. 이를 통해 재료 비용을 줄이고, 생산 속도를 높이고, 빠르게 패턴을 변경하고, 특히 정밀한 형상 크기에 더블 패터닝이 필요한 경우에 이상적입니다.

 

디지털 리소그래피 애플리케이션

  • 인쇄 회로 보드
  • 평면 패널
  • 산업용 프린터
  • 컴퓨터-판 프린팅
  • 곡면 프린터
  • 동적 레이저 마킹 및 코딩
  • 절삭 및 수리
디지털 리소그래피

디지털 리소그래피의 장점

고속 디지털 패턴 생성(최대 32kHz)

물리적 마스크나 인쇄판이 필요하지 않아 제조 처리량 향상.

여러 마이크로미러 크기 사용 가능(7, 10, 13µm)

미크론 수준의 형상 크기 구현 가능.

확장된 파장 지원(363~2500nm)

다양한 감광성 물질을 양생하거나 열에 민감한 필름과 상호 작용합니다.

모두 확장모두 축소

디지털 리소그래피 제품 및 개발 키트

높은 resolutionhigh speeddigital 마이크로미러 디바이스(dmd) dlp6500fyedlp6500flqdlp9000dlp7000dlp7000uvdlp9500dlp9500uvdlp9000xresolution1920x1080x1600x768x1080x1600900dlpc900( qty2) dlpc410dlpc410dlpc910max 패턴 rate9.5 khz9.5 khz32.5 khz23.1 khz15.0 khzmax 픽셀 데이터 rate19.7 gbps39 gbps25.2 gbps48.0 gbps61.1 gbpsoptimized wavelengthdlp6500fye:
 



          
 
420nm DLP6500flq:   
 400nm4007000:  
    420nm DLP7000uv:   
 3639500:  
400nm DLP9500uv:   
 363nm4006500fye:  
   
DLP LightCrafter 6500 DLP LightCrafter 9000 DLP Discovery 4100 DLP Discovery 4100 없음

디지털 리소그래피 레퍼런스 디자인

완제품 주요 TI 디자인 주요 제품
  고속, 고해상도 리소그래피 서브시스템 DLP9000X

분광학

모든 분자는 빛의 다른 파장에 대해 고유하게 반응합니다. 분광학은 이러한 고유 반응을 사용하여 물질을 파악하고 특성을 규정하는 분석 기술입니다. 분광계 디자인에서 TI DLP DMD(디지털 마이크로미러 디바이스)를 프로그래머블 파장 선택기로 사용할 수 있습니다. 광대역 조명은 광학 구멍을 통해 지나갑니다. 그런 다음 조명의 개별 파장이 회절 격자 또는 프리즘을 사용하여 마이크로미러 어레이에 분산되어, 마이크로미러 어레이의 일부를 특정 파장에 매핑할 수 있게 됩니다. 이렇게 조명의 특정 파장은 단일 요소 감지기로 전환됩니다. 강력한 이 설계 아키텍처는 선형 어레이 감지기나 파장 범위에 대한 스펙트럼 스캔을 생성하는 모터가 필요하지 않으므로, 더 높은 성능과 더 작은 폼팩터, 더 낮은 비용으로 화학적 분석이 가능합니다.

 

분광학 애플리케이션


  • agricultureoil 및 가스 분석


  • 식품 및 약물 inspectionwater 및 공기 청정도

  • 화학 및 물질 식별
디지털 리소그래피

분광학의 장점

고해상도, 프로그래머블 광학 MEMS 어레이

큰 하나의 요소 감지기를 사용하여 파장 분해능을 낮추지 않고도 선형 어레이 감지에 비해 더 많은 조명을 캡처.

확장된 파장 지원(최대 2500nm)

다양한 고체와 액체 및 여러 조명을 위해 사용자 지정 가능한 단일 광학 엔진 사용 가능.

고속 스위칭

스캔 매개 변수 조정을 통해 실시간 물질 분석을 위한 빠른 스펙트럼 스캔 생성.

안정적인 MEMS 기술

온도와 시간 변화에 안정적이며 소형의 견고한 설계 가능.

모두 확장모두 축소

분광학 제품 및 개발 키트

소형 폼팩터
고해상도
DMD(디지털 마이크로미러 디바이스) DLP2010NIR DLP4500NIR DLP650LNIR
해상도 854 x 480 912 x 1140 1280 x 800
디지털 컨트롤러 DLPC150 DLPC350 DLPC410
최대 패턴 속도 2,880Hz 4,225Hz 12.5kHz
최적화 파장 700~2500nm 700~2500nm 800~2000nm
평가 모듈(EVM) DLP NIRscan Nano DLP NIRscan

DLPLCR65NEVM

DLPLCRC4100EVM

EVM 특징

900~1700의 파장 범위

10nm의 스펙트럼 해상도

반사 헤드 포함 최대 6000:1의 신호-노이즈 비율

배터리 충전 옵션을 갖춘 무선 연결을 위한 Bluetooth® 및 Bluetooth 저에너지

1350~2450nm의 파장 범위

12nm의 스펙트럼 해상도

전달 헤드 포함 30,000:1 이상의 신호-노이즈 비율