JAJA963A
November 2014 – August 2025
DLP9000
,
DLP9000X
,
DLP9500
,
DLPC900
,
DLPC910
1
400
nm までの波長で TI DLP テクノロジーを使用する際のシステム設計上の考慮事項
商標
1
はじめに
2
熱に関する注意事項
3
デューティ サイクルに関する考慮事項
4
コヒーレンシーに関する考慮事項
5
光学的な考慮事項
6
高倍率縮小システムの考慮事項
6.1
非コヒーレント 光源 (ランプおよび LED)
6.2
コヒーレント光源 (レーザー)
7
まとめ
8
参考資料
9
改訂履歴
8
参考資料
テキサス・インスツルメンツ、
DLP テクノロジー入門
テキサス・インスツルメンツ、
パルス光源を含むデジタル マイクロミラー デバイスの熱的考慮事項
、アプリケーション ノート
テキサス・インスツルメンツ、
DLP
®
DMD テクノロジーにおけるレーザーの使用法
、アプリケーション ノート
テキサス・インスツルメンツ、
DLP
®
光学設計ガイドライン
Mol. Cryst. Liq. Cryst., Vol. 411, pp. 243=[1285]–253=[1295]、2004 年、「高い複屈折性を持つ液晶の紫外線安定性」 – Lin、Wu、Chang、Hsu 著。
LIQUID CRYSTALS, VOL. 31, NO. 11、2004 年 11 月、pp.1479–1485、「シアノ基およびイソチオシアネート基を末端に含む液晶の紫外線安定性」 - Wen、Gauza、Wu 著。