近紫外線製品 (400 ~ 420nm)

高速でフル プログラマブルな構造化光およびパターン投影アプリケーションで使用する近紫外線 (NUV) 波長向けに最適化済み

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TI の DLP® 技術を採用した、専用設計の近紫外線 (NUV) デバイスは、3D スキャンとマシン ビジョン向けの高速チップ製品ラインアップを拡充しています。プログラマブルなパターン、スケーラブルなプラットフォーム、高速ピクセル データ レートという特長を活用し、革新的な構造化光設計と、420nm を下回る他のパターン生成ソリューションを実現することができます。サード パーティーの光学モジュール、アルゴリズム ソフトウェア、設計サポートを活用すると、設計を迅速に開始できます。 

設計と開発に役立つリソース

光学モジュール
DLP® 製品サードパーティの検索ツール

お客様の設計ニーズを最適な方法で満たし、市場投入までの期間を短縮できるように、DLP® Products は、さまざまなサード・パーティーと連携します。これらのサード・パーティーは、光学モジュールやハードウェアの設計から、専用ソフトウェアやその他の量産サービスまで、あらゆる支援を行っています。以下に示す検索ツールの一方または両方をダウンロードすると、TI のサード・パーティー各社を手早く参照すること、またはお客様のニーズに適した特定の光学モジュールを見つけることができます。掲載されている各種製品、ソフトウェア、サービスの製造と管理を実施しているのは、TI (テキサス・インスツルメンツ) (...)

リファレンス・デザイン
高速 DLP サブシステム、工業用 3D 印刷、および、デジタル・リソグラフィ用、リファレンス・デザイン

高速 DLP® サブシステム・リファレンス・デザインは、高分解能、高速性、高信頼性が求められる産業用デジタル・リソグラフィーと 3D プリント・アプリケーション向けのシステム・レベルの DLP 開発ボード設計用のリファレンス・デザインを提供します。このリファレンス・デザインは最高分解能の DLP デジタル・マイクロミラー・デバイス DLP9000X と最高速のデジタル・コントローラ DLPC910 を統合することにより、最大のスループットを実現しています。さらに、400 万個以上のマイクロミラー(WQXGA 解像度)を搭載することにより、60 (...)

評価ボード
DLP® 0.65 インチ、1080p、S600 デジタル・マイクロミラー・デバイス (DMD) の評価基板

この DLP 評価基板 (EVM) は、2 本の LVDS 入力に対応する 0.65 インチのデジタル・マイクロミラー・デバイス (DMD) を搭載した DLP6500FYE を採用しています。このデバイスは、1920 x 1080 個のマイクロミラーを実装しており、そのピッチは 7.56μm です。DLPLCRC900EVM と組み合わせると、最大 9,523Hz のレートで、1 ビット・パターンの高精度ピクセル制御を実現できます。

DLPLCR65EVM は、DLP (...)