UV (420nm 未満) 対応 DMD

積層造形とリソグラフィーに適した高精度でスループットの高い光制御を実現

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当社の紫外線デジタル マイクロミラー デバイス (DMD) は、精度と再現性が求められる産業用プロセスに適した高分解能かつ高スループットの光制御を実現します。UV の深いスペクトルまでの波長向けに最適化されたこれらのデバイスは、ダイレクト イメージング、3D プリント、半導体リソグラフィーなどのアプリケーションをサポートしています。光効率とスケーラブルな設計を組み合わせることで、当社のデバイスは、生産環境でのワークフローの高速化、よりシャープな機能、長期的な信頼性の実現に役立ちます。

主な紫外線 (420nm 未満) DMD

TI の DLP 紫外線 DMD の特長

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高速かつ&高スループット

最大数百万ピクセルを一度に印刷または露光します。これらの製品は、フレキシブルなデータ ロード、高効率、高速な更新を実現できる設計を採用しています。

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高い精度&と精細さ

高精度のピクセル制御、マルチビット露光、焦点調整型光学機器を使用すると、サブミクロン (1μm 未満) レベルの高精度で、再現性のある露光を実現できます。

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信頼性の高い MEMS テクノロジー

UV (<420nm) の波長で高信頼性の動作が実現し、交換も不要です。

産業イノベーションを実現する DLP テクノロジー

デジタル製造の革新を推進

DLP テクノロジーを使用したデジタル イメージングは、マスクベースのアプローチに代わる選択肢を実現します。DMD はプログラマブル フォトマスクとして動作するため、高速、高分解能、スケーラビリティ、高精度の印刷を実現し、光パターンを照射して、感光性の物質を露光します。マスクを排除することで、材料コストの削減、マスク製造時間の短縮、マスク在庫管理の排除、開発の高速化が実現します。

高分解能と高速動作により、パターンの迅速な変更と即時の修正に対応します。これらの利点は、効果的なスケーリング、歩留まりの向上、パネルレベルの生産を可能にします。DLP ダイレクト イメージングは、PCB の製造、フラットパネル ディスプレイの修復、レーザー マーキング、高度なパッケージング、その他の露光アプリケーションをサポートします。

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アプリケーション・ノート
DLP® テクノロジーを活用してパネル レベルの先進的なパッケー ジングを実現する方法
このアプリケーション概要では、先進パッケージの動向と、DLP テクノロジーがこの製造プロセスの可能性をいかに引き出すかについて説明します。
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関連資料
TI の DLP® テクノロジーにより、先進的なパッケージングを可能にする高精度デジタル リソグラフィーを実現
リアルタイム補正機能を備えた新しいデジタル マイクロミラー デバイスにより、装置メーカーは大規模でも高解像度印刷を実現でき、生産効率と歩留まりを最大化できます
デジタル イメージング に関する主な製品
DLP991UUV アクティブ 0.99 型、高速、2176 x 4096、UV Type A DLP® デジタル マイクロミラー デバイス (DMD)
DLP991U アクティブ 0.99 インチ 4K 高速 DLP® デジタル マイクロミラー デバイス (DMD)
DLP9000XUV アクティブ 0.9 インチ、WQXGA、紫外線 (UV)、高速 DLP® デジタル マイクロミラー デバイス (DMD)

DLP テクノロジーを採用した高分解能、高速 3D プリント 

3D プリント アプリケーション向け TI の DLP テクノロジーは、デジタル マイクロミラー デバイス (DMD) を使用して 2D 構造化光パターンを投影することで、感光性樹脂を硬化させたり粉末材料を焼結させたりします。DLP テクノロジーは層全体を並列に露光することで、レーザーなどのポイントバイポイント方式に比べて、高速なプリント速度と高い分解能を実現します。

DLP ソリューションは、広いスペクトルにわたるプログラマブルな光制御機能を搭載しており、多様な積層造形プロセスで柔軟性を確保できます。高い光効率、高精度のピクセル配置、再現可能な精度により、微細な形状分解能、滑らかな表面仕上げ、迅速なプロトタイプ製作から量産レベルの 3D プリントまで信頼性の高いスケーリングが可能になります。

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アプリケーション・ノート
Wavelength Transmittance Considerations for DLP DMD Windows (Rev. E)
このレポートは、波長スペクトルのさまざまな領域を対象にして、DMD ウィンドウの透過率に関する情報を掲載しています。DMD システムの全体的な光効率を理解するには、透過率を理解することが重要です。
PDF
アプリケーション・ノート
System Design Considerations Using TI DLP® Technology in UVA (363 – 420 nm) (Rev. B)
UV (紫外線) スペクトルの UVA (紫外線 A) 領域で動作する設計を採用した DMD を使用して、熱、デューティ サイクル、全般的な光学特性、コヒーレンシー、高い縮小率を実現するのに役立つ設計上の検討事項をご確認ください。
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技術リソース

ビデオ・シリーズ
ビデオ・シリーズ
DLP ラボ：光制御
このトレーニングは最初に、DLP® テクノロジーの基礎や、機械的な検討事項を解説します。それらを土台とし、設計プロセスを迅速かつ簡単に進めるのに役立つ、トレーニング向けに専用制作した特定用途向けのトピックを取り扱います。
ホワイト・ペーパー
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High accuracy 3D scanning using Texas Instruments DLP® technology for structured (Rev. A)
DLP 3D スキャンとマシン ビジョンの技術や、アプリケーションに関する理解を深め、コンポーネントを比較する方法で、構造化光アプリケーションに最適な製品を見つけることができます。
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アプリケーション・ノート
アプリケーション・ノート
Wavelength Transmittance Considerations for DLP DMD Windows (Rev. E)
電磁スペクトルの各領域での DMD ウィンドウと透過効率について説明します。
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UV (420nm 未満) 対応 DMD の設計と開発

開始する

開発中アプリケーションに最適なチップセットの検討、評価基板を使用した設計の迅速なプロトタイプ製作、入手可能な最新ソフトウェアのダウンロード、光学モジュール メーカーの選定、オンライン エンジニアリング サポートの活用による設計上の問題の解決、サード パーティーによる設計 / 開発エコシステムを活用した、ソリューションの市場への迅速な導入、という一連の業務を実行することができます。

信頼性の高いこれらの評価基板 (EVM) と技術資料を使用し、開発中アプリケーションに適したデジタル マイクロミラー デバイス (DMD) とコントローラの評価を開始します

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開発に使用する DLP コントローラ、SDK (ソフトウェア開発キット)、GUI (グラフィカル ユーザー インターフェイス)、または API (アプリケーション プログラミング インターフェイス) に適したファームウェア (FW) をダウンロードします

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デジタル マイクロミラー デバイス (DMD) など既製光学モジュールを取り扱っているメーカーを選定すると、開発期間を短縮できます

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TI のエンジニアから迅速で信頼性の高い技術サポートを受けることができます。これらのエンジニアはお客様の技術的な質問に回答し、設計時に直面する課題の解決に役立つ知識を公開しています

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設計と開発のエコシステムに属するさまざまなサード パーティーと連携して業務を進めることができます。それらの企業は、光学モジュール、設計サービス、専用ソフトウェア、特化型コンポーネントを提供します

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30 SEP 2025 | カンパニー・ブログ
マスクを超えて：DLP®は、先進パッケージングを使用した新しい計算システムを可能にしました
半導体産業の先進的なパッケージングの動向は、並行して行われるリトグラフィーの進化を必要としています。そして、DLPテクノロジーはこれを達成するキーとなります。
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