DLPLCRC410EVM
DLPLCRC410 の評価モジュール
DLPLCRC410EVM
概要
The DLPLCRC410EVM, paired with one of five other DMD-based EVMs, is an evaluation platform exhibiting advanced light control for applications like lithography, 3D Printing (SLS and SLA), Machine Vision, and Marking and Coding. This EVM enables evaluations of new customer illumination sources, optics, algorithm, and exposure processes to quicken potential evalation of DLP technology, customer learning cycles, and times to market.
特長
- Light control of one of 5 different DMDs
- Binary pattern rates up to 32 kHz
- Grayscale patterns rates up to 1.9 kHz
- 2xLVDS DDR input data interface at 400Mhz clock rate
- Supports random row addressing of DMD rows
- Power supply not included
紫外線製品 (400nm 未満)
近紫外線製品 (400 ~ 420nm)
購入と開発の開始
DLPLCRC410EVM — DLPLCRC410 の評価モジュール
DLPC104 — DLP Discovery 4100 Explorer GUI
DLPC104 — DLP Discovery 4100 Explorer GUI
製品
近紫外線製品 (400 ~ 420nm)
ハードウェア開発
評価ボード
光学モジュール
リリース情報
DMD-DIFFRACTION-EFFICIENCY-CALCULATOR — Calculator helps model DMD diffraction patterns and diffraction efficiency
DMD-DIFFRACTION-EFFICIENCY-CALCULATOR — Calculator helps model DMD diffraction patterns and diffraction efficiency
製品
0.47 インチ以上のアレイを使用する製品
0.47 インチ以下のアレイを使用する Pico 製品
紫外線製品 (400nm 未満)
可視光製品 (420 ~ 700nm)
分光器と光学ネットワーク製品
車外照明 / 投影製品
近紫外線製品 (400 ~ 420nm)
ディスプレイ製品
近赤外線製品 (> 700 nm)
マルチチャネル IC (PMIC)
ハードウェア開発
評価ボード
開発キット
光学モジュール
リリース情報
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Copyright © 2024 Texas Instruments Incorporated - http://www.ti.com/
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Product name: DMD Diffraction Efficiency Calculator
Version: 1.0.0.0
Date: May 2024
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DESCRIPTION
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The DMD Diffraction Efficiency Calculator is used to help customers understand how to model DMD diffraction patterns and diffraction efficiency with their specific DMD input parameters and will be modeled to the customers specific design.
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REVISION HISTORY
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* Initial release
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RESTRICTIONS
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* Tested on Windows 10.
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CONTACT US
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At http://e2e.ti.com/
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DLPC103 — DLP(R) Discovery 4100 Applications FPGA Pattern Generator Source Code
DLPC103 — DLP(R) Discovery 4100 Applications FPGA Pattern Generator Source Code
製品
近紫外線製品 (400 ~ 420nm)
ハードウェア開発
評価ボード
光学モジュール
リリース情報
DLPC133 — DLP Discovery 4100 Explorer GUI version 2.0
DLPC133 — DLP Discovery 4100 Explorer GUI version 2.0
ハードウェア開発
評価ボード
光学モジュール
リリース情報
DLPC134 — DLP(R) Discovery 4100 Applications FPGA Pattern Generator Source Code version 2.
DLPC134 — DLP(R) Discovery 4100 Applications FPGA Pattern Generator Source Code version 2.
製品
近紫外線製品 (400 ~ 420nm)
ハードウェア開発
評価ボード
光学モジュール
リリース情報
設計ファイル
技術資料
種類 | タイトル | 英語版のダウンロード | 日付 | |||
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* | EVM ユーザー ガイド (英語) | DLP Discovery 4100 Development Kit Software EVM User’s Guide (Rev. B) | PDF | HTML | 2023年 3月 5日 | ||
証明書 | DLPLCRC410EVM EU Declaration of Conformity (DoC) | 2023年 7月 14日 | ||||
アプリケーション・ノート | Wavelength Transmittance Considerations for DLP DMD Windows (Rev. E) | 2019年 12月 17日 | ||||
アプリケーション・ノート | System Design Considerations Using TI DLP® Technology in UVA (363 – 420 nm) (Rev. A) | 2019年 10月 2日 | ||||
ホワイト・ペーパー | 大出力 NIR レーザー・システムは TI の DLP® 技術の利点を活用しています。 | 英語版 | 2019年 1月 11日 | |||
ユーザー・ガイド | Discovery 4100 APPSFPGA PGen Design (Rev. A) | 2018年 12月 4日 | ||||
ユーザー・ガイド | DLP Discovery 4100 Controller Board API Programmer’s Guide (Rev. A) | 2018年 12月 3日 | ||||
アプリケーション・ノート | DMD 101: Introduction to Digital Micromirror Device (DMD) Technology (Rev. B) | 2018年 2月 23日 | ||||
アプリケーション・ノート | System Design Considerations Using TI DLP Technology Down to 400 nm | 2014年 11月 12日 |