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工業數位微鏡裝置（DMD） 設計與開發
研究適合您的應用的晶片組、利用評估模組以快速為您的設計進行原型設計、下載最新的可用軟體、選擇光學模組製造商、利用線上工程支援解決您的設計問題，並且使用第三方設計和開發生態系統以加速將您的解決方案部署至市場。
硬體
使用這些強大的評估模組 (EVM) 和技術文件，開始評估您應用的數位微型反射鏡元件 (DMD) 和控制器
軟體
下載適合您 DLP 控制器、軟體開發套件 (SDK)、圖形使用者介面 (GUI) 或應用程式編程介面 (API) 的韌體 (FW)
光學模組
選擇包含數位微型反射鏡元件 (DMD) 在內的現成光學模組製造商，加快上市速度
教育資源
獲得我們工程師快速可靠的技術支援，他們將回答您的技術問題並分享知識，以解決您的設計問題
合作夥伴
與各種設計與開發生態系統第三方合作，提供光學模組、設計服務、專業軟體或專業元件
為何為您的設計選擇我們的工業光調變 DMD？
每一步都具備精確性和性能
體驗優異的光學準確度和可跨應用進行擴充的一致性能，以確保您的系統透過可編程控制以峰值效率運作。
高速&傳輸速率
利用 DLP 技術實現快速切換速度，以加快工業工作流程，並在光學系統中實現即時控制和更高的傳輸速率。
經過驗證的可靠性，適用於持續工業運作
DLP DMD 可提供一致、穩定的性能及穩健設計，以確保在嚴苛的工業環境中可持續運作，且不會造成停機或品質損失。
整個光譜強大的光學輸出
利用我們的 DMD，善用從 UV 至 NIR 的高強度光調變，提供強大的照明，滿足亮度與精密度嚴格的應用需求。
探索我們的 DMD 如何產生影響力
利用 DLP 技術實現可靠的無光罩微影
採用 DLP 技術的數位成像提供了基於掩碼的方法之替代方案。數位微鏡裝置 (DMD) 可作為可編程光罩使用，提供快速、高解析度、可擴展且精確的列印，引導光圖案以曝光光敏材料。消除光罩可降低材料成本、縮短光罩製造時間、消除光罩庫存管理，並加快開發速度。
高解析度和速度支援快速圖案變更和立即校正。這些優勢可有效擴展、提高產量並促進面板級生產。DLP 直接成像支援 PCB 製造、平面顯示器維修、雷射標記、進階封裝及其他曝光應用。
How DLP Technology Enables Panel-level Advanced Packaging
實現高速、可編程結構光和圖案投影
DLP 技術為 3D 掃描和機械視覺應用提供高速、完全可編程的圖案投影。DLP 技術透過可擴充架構、精確的像素控制和快速的資料速率，實現結構化光設計，即時擷取詳細的深度和尺寸資料。
全方位的第三方光學模組、演算法軟體和設計工具可幫助加快開發速度，支援在機器人、工業自動化、測量和品質檢測領域的應用。
Highly Scalable TI DLP Technology for 3D Machine Vision (Rev. A)
使用 DLP 技術的 3D 機械視覺應用參考設計
利用 DLP 技術，加速工業與桌上樹脂 3D 列印
DLP 技術透過將 UV 光投影以逐層固化光聚合物材料，實現快速、可靠且精確的樹脂基積層製造。與逐點方法不同，DLP 印表機可一次暴露整個層，進而提供更快的列印速度、精細的功能解析度和卓越的重複性。
通過覆蓋 343nm 到 2,500nm 的波長支援，DLP 技術可適應各種樹脂，適用於工業、牙科、珠寶和自訂製造應用。
實現精確、高速光學切換和訊號控制
DLP 產品也可實現快速、精確且可靠的光學網路元件，如切換、衰減器、監控和波長調節器，其中包括可重組光塞取多工器 (ROADM)。數位微鏡裝置 (DMD) 可實現精確的光控制，且具備高隔離、快速切換速度，及 355nm 至 2,500nm 的廣泛波長支援。
這些優勢可強化光學訊號路由，並實現可擴充、節能的網路設計。
Wavelength Transmittance Considerations for DLP DMD Windows (Rev. E)
Featured products for 光學網路
以 DLP 技術打造精巧、高性能的光譜儀
每個材料都與光源以獨特的方式交互。DLP 技術可實現快速、準確且精巧的光譜儀，可分析這些光學特徵，以識別材料並描述材料的特徵。由稜鏡或繞射光柵分散的光線投射到 DMD 上，其將所選波長引導至單一元件偵測器，以進行精確的量測。
此方法可縮減系統尺寸與成本，同時提高實驗室、現場與工業光譜應用的靈敏度、速度與多元用途。