DLPLCRC410EVM
DLPLCRC410 の評価モジュール
DLPLCRC410EVM
概要
The DLPLCRC410EVM, paired with one of five other DMD-based EVMs, is an evaluation platform exhibiting advanced light control for applications like lithography, 3D Printing (SLS and SLA), Machine Vision, and Marking and Coding. This EVM enables evaluations of new customer illumination sources, optics, algorithm, and exposure processes to quicken potential evalation of DLP technology, customer learning cycles, and times to market.
特長
- Light control of one of 5 different DMDs
- Binary pattern rates up to 32 kHz
- Grayscale patterns rates up to 1.9 kHz
- 2xLVDS DDR input data interface at 400Mhz clock rate
- Supports random row addressing of DMD rows
- Power supply not included
紫外線製品 (400nm 未満)
近紫外線製品 (400 ～ 420nm)
購入と開発の開始
評価ボード
DLPLCRC410EVM — DLPLCRC410 の評価モジュール
TI.com で取り扱いなし
評価基板 (EVM) 向けの GUI
DLPC104 — DLP Discovery 4100 Explorer GUI
DLPC104 — DLP Discovery 4100 Explorer GUI
最新バージョン
バージョン: 01.00.00.0A
リリース日: 25 11 2018
製品
近紫外線製品 (400 ～ 420nm)
ハードウェア開発
評価ボード
光学モジュール
リリース情報
The design resource accessed as www.ti.com/lit/zip/dlpc104 or www.ti.com/lit/xx/dlpc104a/dlpc104a.zip has been migrated to a new user experience at www.ti.com/tool/jp/download/DLPC104. Please update any bookmarks accordingly.
アプリケーション・ソフトウェアとフレームワーク
DLPC103 — DLP(R) Discovery 4100 Applications FPGA Pattern Generator Source Code
DLPC103 — DLP(R) Discovery 4100 Applications FPGA Pattern Generator Source Code
最新バージョン
バージョン: 01.00.00.0A
リリース日: 25 11 2018
製品
近紫外線製品 (400 ～ 420nm)
ハードウェア開発
評価ボード
光学モジュール
リリース情報
The design resource accessed as www.ti.com/lit/zip/dlpc103 or www.ti.com/lit/xx/dlpc103a/dlpc103a.zip has been migrated to a new user experience at www.ti.com/tool/jp/download/DLPC103. Please update any bookmarks accordingly.
評価基板 (EVM) 向けの GUI
DLPC133 — DLP Discovery 4100 Explorer GUI version 2.0
DLPC133 — DLP Discovery 4100 Explorer GUI version 2.0
最新バージョン
バージョン: 01.00.00.0A
リリース日: 13 6 2021
ハードウェア開発
評価ボード
光学モジュール
リリース情報
The design resource accessed as www.ti.com/lit/zip/dlpc133 or www.ti.com/lit/xx/dlpc133a/dlpc133a.zip has been migrated to a new user experience at www.ti.com/tool/jp/download/DLPC133. Please update any bookmarks accordingly.
サポート・ソフトウェア
DLPC134 — DLP(R) Discovery 4100 Applications FPGA Pattern Generator Source Code version 2.
DLPC134 — DLP(R) Discovery 4100 Applications FPGA Pattern Generator Source Code version 2.
最新バージョン
バージョン: 01.00.00.00
リリース日: 20 5 2020
製品
近紫外線製品 (400 ～ 420nm)
ハードウェア開発
評価ボード
光学モジュール
リリース情報
The design resource accessed as www.ti.com/lit/zip/dlpc134 or www.ti.com/lit/xx/dlpc134/dlpc134.zip has been migrated to a new user experience at www.ti.com/tool/jp/download/DLPC134. Please update any bookmarks accordingly.
設計ファイル
技術資料
= TI が選択した主要ドキュメント
結果が見つかりませんでした。検索条件をクリアして、もう一度検索を行ってください。
すべて表示 9
| 種類 | タイトル | 英語版のダウンロード | 日付 | |||
|---|---|---|---|---|---|---|
| * | EVM ユーザー ガイド (英語) | DLP Discovery 4100 Development Kit Software EVM User’s Guide (Rev. B) | PDF | HTML | 2023年 3月 5日 | ||
| 証明書 | DLPLCRC410EVM EU Declaration of Conformity (DoC) | 2023年 7月 14日 | ||||
| アプリケーション・ノート | Wavelength Transmittance Considerations for DLP DMD Windows (Rev. E) | 2019年 12月 17日 | ||||
| アプリケーション・ノート | System Design Considerations Using TI DLP® Technology in UVA (363 – 420 nm) (Rev. A) | 2019年 10月 2日 | ||||
| ホワイト・ペーパー | 大出力 NIR レーザー・システムは TI の DLP® 技術の利点を活用しています。 | 英語版をダウンロード | 2019年 1月 11日 | |||
| ユーザー・ガイド | Discovery 4100 APPSFPGA PGen Design (Rev. A) | 2018年 12月 4日 | ||||
| ユーザー・ガイド | DLP Discovery 4100 Controller Board API Programmer’s Guide (Rev. A) | 2018年 12月 3日 | ||||
| アプリケーション・ノート | DMD 101: Introduction to Digital Micromirror Device (DMD) Technology (Rev. B) | 2018年 2月 23日 | ||||
| アプリケーション・ノート | System Design Considerations Using TI DLP Technology Down to 400 nm | 2014年 11月 12日 |