DLP650LNIR
- 100万を超えるマイクロミラーによる1280×800 (WXGA)アレイ
- マイクロミラー・ピッチ: 10.8µm
- マイクロミラー傾斜角:±12°(フラット状態に対して)
- コーナー照明用に設計された対角0.65インチのアレイ
- 熱抵抗0.5°C/Wの高効率パッケージ
- NIR光(800nm~2000nm)の効率的なステアリング
- DMD上で最大160Wの入射
- ウィンドウ伝送効率98%超(950nm~1150nm、2つのウィンドウ表面経由のシングル・パス)
- ウィンドウ伝送効率93%超(850nm~2000nm、2つのウィンドウ表面経由のシングル・パス)
- 偏波無依存のアルミニウム製マイクロミラー
- 16ビット、2xLVDS、400MHzの入力データバス
- 専用のDLPC410コントローラ、DLPR410 PROM、DLPA200マイクロミラー・ドライバによる高信頼性で高速の動作
- 最高12,500Hzのバイナリ・パターン速度
- グローバル、シングル、デュアル、クワッドのブロック・ミラーのクロッキング・パルス(リセット)動作モード
DLP650LNIRデジタル・マイクロミラー・デバイス(DMD)は空間光変調器(SLM)で、近赤外線(NIR)光をステアリングし、高速でパターンを生成して、産業用機器の高度な画像処理に使用できます。熱効率の高いパッケージを使用しているため、DMDを大電力のNIRレーザー照明と組み合わせて、動的なデジタル印刷、焼結、マーキングのソリューションを構築できます。DLP650LNIR、DLPC410、DLPR410、DLPA200チップセットは、1ビットのパターンを最高12,500Hzの速度で生成でき、ピクセル単位で正確なコントロールを行うため、エンジニアは従来のステアリング・レーザーで可能なものより革新的で高精度な光学システムを設計可能です。
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比較対象デバイスと類似の機能。
技術資料
設計および開発
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Optecks DLP650LNIR 評価基板 (EVM) は DLP650LNIR DMD を搭載しています。この製品は 0.65 インチで NIR (近赤外線) に対応する WXA シリーズ 450 DMD であり、850 ~ 2000nm の近赤外線スペクトルで動作するアプリケーションでの使用を想定した設計を採用しています。Optecks DLP650LNIR EVM は、レーザー焼結、アブレーション (除去)、マーキング、コーディング (刻印)、プリント、および NIR 光源を使用する他のアプリケーションに適した高度な画像処理ソリューションです。DLPCRC410EVM (...)
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ポリマー・ベースのパウダー・ベッド・フュージョン (粉末を溶融する 3D プリンタ) 向けの新しいアプローチとして、VISITECH は LRS-MCx-WX 光学エンジンの導入を進めており、投影型 2D画像で 100W を上回る比類のない近赤外線 (NIR) 出力を実現できます。従来の選択的レーザー焼結 (SLS) テクノロジーは、ポリマー金属を点ごと、また面ごとに連続的に加熱する手法です。それに対し、パウダー・ベッド・フュージョンは、生産性の高いシステムを目指すための代替選択肢となります。
DLP-OMM-SEARCH — DLP® 製品サードパーティの検索ツール
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OPTECKS-3P-SPARKNIR — Optecks DLP650LNIR DMD evaluation module
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(...)
DLPR410-IBIS DLPR410 IBIS Model
Series 450 DMD Mounting & Electrical Interconnect Information (Rev. A) Series 450 DMD Mounting & Electrical Interconnect Information (Rev. A)
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DLP650LE/DLP650LNIR DMD With FYL Package (Series 450) 3D-CAD Geometry DLP650LE/DLP650LNIR DMD With FYL Package (Series 450) 3D-CAD Geometry
パッケージ | ピン数 | ダウンロード |
---|---|---|
CLGA (FYL) | 149 | オプションの表示 |
購入と品質
- RoHS
- REACH
- デバイスのマーキング
- リード端子の仕上げ / ボールの原材料
- MSL rating / リフローピーク温度
- MTBF/FIT 推定値
- 原材料組成
- 認定試験結果
- 継続的な信頼性モニタ試験結果